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光刻胶作为光刻过程核心材料 相关公司或迎成长机会
2019-11-07 15:33:29
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光刻胶作为光刻过程的核心材料,其质量和性能直接决定集成电路的性能、良率。伴随着先进节点所需光刻胶分辨率的提升以及多次图形化技术的应用,光刻胶的成本占比以及市场规模呈现不断提升趋势,根据SEMI的数据,2018年光刻胶占晶圆制造材料比例约为5.4%,对应全球半导体光刻胶市场总规模为17.3亿美元,预计2019年市场规模可达17.7亿元。

机构认为,根据统计国内晶圆投资情况,建厂热潮直接带动晶圆代工产业链快速成长,光刻胶直接用于实际生产过程且具备采购相对迅速特点,预计2019-2020年为国内光刻胶需求快速放量期。国家政策推动自主可控、国内光刻胶技术逐渐突破、代工厂商分摊供应商风险将持续推动内资晶圆代工厂商提升对国产光刻胶的接受程度,给予国内优质的光刻胶厂商快速成长的机会。

相关公司:

南大光电:公司正在自主创新和产业化的193nm光刻胶项目仍处于研发阶段,产业化建设同步进行。

江化微: 公司主营业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研发、生产和销售。

容大感光:公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品,主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。

财联社声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作,风险自担。
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