2024年08月19日 12:45:12SK 海力士计划2026年首次导入ASML High NA EUV光刻机
《科创板日报》19日讯，SK海力士EUV材料技术人员表示，该企业计划于2026年首次导入ASML的High NA EUV光刻机。SK海力士新近成立了一个High NA EUV研发团队，正致力于将High NA EUV光刻技术应用到最先进DRAM内存的生产上。 (ZDNet Korea)
我要评论
反馈意见 
图片欢迎您发表有价值的评论，发布广告和不和谐的评论都将会被删除，您的账号将禁止评论。
关联话题
2.07W 人关注
财联社 ©2018-2026上海界面财联社科技股份有限公司 版权所有沪ICP备14040942号-9沪公网安备31010402006047号互联网新闻信息服务许可证：31120170007沪金信备 [2021] 2号