财联社9月17日讯，昨日盘后，国新办就中国科学院“率先行动”计划第一阶段实施进展情况举行发布会。

发布会上，中科院院长白春礼表示：面临美国对中国高科技产业的打压，我们希望在这方面能做一些工作。我们把美国“卡脖子”的清单变成我们科研任务清单进行布局，比如航空轮胎、轴承钢、光刻机，还有一些关键的核心技术、关键原材料等，我们争取将来在第二期，聚焦在国家最关注的重大的领域，集中我们全院的力量来做。

芯片制造是我国最大的短板，直接制约着中国高科技企业的持续健康发展，其中光刻机作为制造芯片的核心装备，重要程度不言而喻。

然而目前高精度的光刻机只有荷兰、美国、日本、德国等少数企业掌握，其中荷兰的阿斯麦公司（ASML）更是其中的龙头老大，并已经占据了高达80%的市场份额，垄断高端光刻机市场。

据悉，目前最先进的EUV光刻机精度为7纳米，售价曾高达1亿美元一台，且全球仅仅ASML能够生产。而英特尔、三星和台积电都是ASML的股东，享有光刻机的优先供货权。

与此同时，中国自主生产的光刻机精度约为90纳米级别，与世界最先进水平大约有15年的技术差距。

其实这些年来，国内早就有设备厂商，以及研究机构在对光刻机进行研发。如上海微电子、中电科四十五所、中电科四十八所等。

目前我国的北斗三号芯片目前已经成功突破了22纳米的限制，它所配套的上海微电子技术也取得了重大突破，成功研制出了22nm的光刻机。

方正证券陈杭认为光刻机国产替代将迎来新的曙光，尤其是IC前道制造领域，将初步打破国外巨头完全垄断的局面，实现从0到1的突破。

建议关注以举国之力助力国产替代的光刻产业链，一是光刻机核心组件：负责整体集成的上海微电子、负责光源系统的科益虹源，负责物镜系统的国望光学，负责曝光光学系统的国科精密，负责双工作台的华卓精科，负责浸没系统的启尔机电；二是光刻配套设施：包括光刻胶，光刻气体，光掩模版，光刻机缺陷检测设备，涂胶显影设备等。