财联社2月9日讯，苏大维格在互动平台表示，公司长期从事直写光刻机的研制，尤其在用于新一轮光子传感器的纳米光刻机研制领域积累了丰富且较为完善的技术经验，可为国内外高等院所和企业提供自主可控的直写光刻技术和光电子材料与器件技术方案，包括微纳光学材料、MEMS产品、射频器件、滤波器件等产品的研发与制造，也可为今后裸眼3D显示、光子晶体、半导体功率芯片等研发和制备等方面，提供前沿性和实用性纳米光刻工具。