大基金、中微公司坐镇 半导体设备商拓荆科技冲击科创板 已有产品打入国际先进制程产线
原创
2021-07-13 17:59 星期二
科创板日报记者 吴凡
公司产品已可应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

《科创板日报》(上海,记者 吴凡),半导体行业高景气度下,又一家国内半导体设备商叩响了科创板大门。

7月12日,上交所受理了拓荆科技股份有限公司(下称“拓荆科技”)的科创板IPO申请,拓荆科技所聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。

招股书显示,拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系。制程应用方面,公司产品已可应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

客户导入方面,拓荆科技的产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线,另外公司还透露,2020年某国际领先晶圆厂向公司增订了一台PECVD设备用于其先进逻辑芯片制造试产线。

半导体设备制造行业的特性之一是初期投入要求非常高,而拓荆科技发展中陆续获得了国家大基金(下称“大基金”)、中微公司、国投上海、苏州聚源等众多知名资本、企业的资金加持。目前大基金为公司第一大股东,持股26.4833%,公司无实际控制人。

此次科创板IPO,公司拟募资10亿元,其中约4亿元投向“先进半导体设备的技术研发与改进项目”。总体来看,随着全球半导体厂商持续扩产,半导体设备有望持续受益。

出货量超150套机台

晶圆制造设备的市场规模占集成电路设备整体市场规模的80%以上,而薄膜沉积又是芯片制造的核心工艺环节。

根据不同的应用,薄膜沉积演化出了PECVD、溅射PVD、ALD、LPCVD等不同的设备用于晶圆制造的不同工艺,其中PECVD占整体薄膜沉积设备市场的33%。

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拓荆科技则是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备厂商。招股书显示,拓荆科技的PECVD设备已配适180-14nm逻辑芯片、19/17nmDRAM及64/128层FLASH制造工艺需求。

分产品型号看,目前拓荆科技有1款12英寸PECVD设备和1款8英寸PECVD已达到产业化应用,3款设备处于产业化验证阶段,另有1款“12英寸PECVD设备PF-300TpX”处于在研阶段,该款设备主要应用于10nm以下逻辑芯片制造。

与之相比,拓荆科技的另一产品ALD在DRAM和3DNAND制造中必不可少的核心设备之一。

招股书显示,拓荆科技共有3款ALD设备,其中12英寸PEALD设备FT-300T已处于产业化应用阶段,该款设备主要应用于逻辑芯片28-14nm纳米SADP、STILiner工艺,55-40nmBSI工艺的晶圆制造、2.5D、3DTSV先进封装领域;其余2款设备均处于研发中,其中FT-300T(Thermal)系列设备主要应用于逻辑芯片28nm以下制程、FT-300H系列设备主要应用于128层以上3DNANDFLASH存储芯片、19/17nmDRAM存储芯片晶圆制造。

而在SACVD设备领域,拓荆科技也是国内唯一一家产业化应用的集成电路SACVD设备厂商,目前公司的8英寸SACVD设备SA-200T为产业化应用阶段,主要应用于90nm以上制程STI、ILD工艺的晶圆制造,而12英寸SACVD设备SA-300T则处于产业化验证阶段,主要应用于40-28nm制程STI、ILD工艺的晶圆制造。

总体来看,拓荆科技已累计发货超150套机台,一定程度上降低了国内集成电路生产线对国际设备厂商的依赖。此外在先进制程方面,公司PECVD设备已发货某国际领先晶圆厂先进制程研发产线,ALD设备已销往国内14nm研发产线。

收入结构单一

报告期内(2018年、2019年、2020年以及2021年1至3月,),拓荆科技各期前五大客户收入占各期比重分别为:100.00%、84.02%、83.78%和100%。公司累计销售额超1亿元的主要客户有中芯国际、华虹集团、长江存储等,其中公司来自中芯国际的收入占各期的比重分别为:14.80%、27.09%、45.73%以及17.94%。

除上述代工厂外,重庆万国半导体(集12英寸芯片制造及封装测试集成为一体的功率半导体企业)、北京燕东(模拟集成电路及分立器件制造商)、广州粤芯(广东省目前唯一进入量产的12英寸芯片生产平台)、合肥晶合集成电路有限公司(安徽省首家12英寸晶圆代工企业)等厂商也曾出现在拓荆科技前五大客户中。

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虽然产品导入到了下游众多的晶圆制造厂商,但报告期内拓荆科技的收入来源较为单一,其主要收入来自于PECVD设备的销售收入。报告期内,PECVD设备贡献的收入分别为:5170.28万元、2.48亿元、4.18亿元和5294.30万元,占各期总营收的比重为:77.98%、100%、97.55%和100%。

《科创板日报》记者梳理发现,造成公司产品结构单一主要有以下几个原因,其一是公司PECVD设备推出较早,产品线较为丰富,下游市场应用广阔,国内市场成熟;其二则于产品验证周期较长有关。

招股书显示,对于新客户的首台订单或新工艺订单设备,整个流程可能需要6-24个月甚至更长时间;而对于重复订单设备,从出货到设备验收通常也需要3-24个月的时间。因此若公司产品验收周期延长,其收入确认将有所延迟。

产品验证周期长,叠加报告期内较大的研发投入(研发费用占各期营业收入的比例为152.84%、29.58%、28.19%和47.02%),由此造成公司报告期内持续亏损。报告期内,拓荆科技净利润分别为-1.03亿元、-1936.64万元、-1169.99万元及-1058.92万元,不过公司亏损正在逐年收窄。

国产化率有较大提升空间

随着招股书的披露,拓荆科技产品的销售价格和生产数量也公之于众。

2018年至2020年,拓荆科技生产的PECVD设备的数量分别为:9台、22台和50台,销售的数量则分别为:4台、19台和31台,PECVD平均销售单价持续小幅增长,为1292.57万元/台、1303.81万元/台和1349.18万元/台。

产品量价齐声的背后,一方面反映的是半导体行业景气度的持续提升,下游晶圆厂的需求增加,对半导体专用设备的需求也随之上升;另一方面,随着我国半导体产业发展阶段逐步走向成熟,国内晶圆制造厂商在采购半导体专用设备时,开始注重供应链安全和成本控制。因此国产半导体设备成为国内各大半导体制造商的重要战略选择。

《科创板日报》记者统计了拓荆科技招股书中披露的的国内同行业公司:中微公司、芯源微、华海清科、盛美股份等2020年业绩。受益于半导体行业景气度的提升,5家公司2020年的营收均呈现同比增长,其中营收最高的为中微公司22.73亿元,营收同比增幅最大的为华海清科,同比增长82.95%。

归母净利润方面,除拓荆科技小幅亏损外,其余可比公司的归母净利润均为正,中微公司和盛美股份的归母净利润分别为:4.9亿元和1.97亿元;另外5家公司2020年归母净利润呈现不同幅度同比增长,其中华海清科和中微公司的增幅超过100%。

而在当前半导体行业缺芯潮之下,各大半导体代工厂商正在持续的扩充产能。SEMI(国际半导体产业协会)在最新发布的报告中预测,全球半导体厂商将在今年年底前开始建设19座新的高产能晶圆厂,并在2022年再开工建设10座。

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根据民生证券的测算,仅国内两大晶圆代工厂中芯国际和华虹2021年就需要用到刻蚀机/光刻/CVD+PVD设备190台/61/380台。

拓荆科技称,国内半导体设备企业在下游客户新建产线中,有机会获得新的业务机会,设备产品有机会获得验证和试用,为国内半导体设备企业开发新产品、扩大市场占有率构建起有力竞争环境。

大基金为大股东

天眼查显示,拓荆科技前身由中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司、孙丽杰于2010年分别出资设立,自成立后共历经多轮融资。

2015年,拓荆科技完成A轮融资,投资方由大基金领衔,其余投资方还包括中芯聚源和华芯投资;2017年8月,拓荆科技又完成了B轮融资,投资方为国投上海和中车资本。

2019年5月,大连港航向中微公司转让其所持拓荆有限3.9646%股权,转让价格为19元/元注册资本。截至招股书签署日,大基金为拓荆科技第一大股东,持股比例为26.4833%;国投上海和中微公司分别位列第二和第三大股东,持股比例为18.2347%和11.1982%;另外苏州聚源和中车资本旗下中车国华的持股比例分别为:1.8977%和1.7095%。

值得注意,中微公司不仅是拓荆科技的同行业可比公司,其同时也是拓荆科技的潜在竞争对手。招股书显示,在ALD设备领域,除拓荆科技外,北方华创、盛美股份、屹唐股份及中微公司已推出自产设备或有进入ALD设备市场的计划。

此外,截至本招股说明书签署日,拓荆科技单个股东持有或控制的股份数量均未超过公司总股本的30%,无法形成控股,单个股东亦不能决定董事会多数席位,使得公司无控股股东及实际控制人。

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