《科创板日报》21日讯，ASML方面表示，EUV (极紫外光) 光刻业务第一台NXE:3600D已出货给客户。相较于前一代产品，NXE:3600D的生产力提高15%到20%，且套刻精度(overlay)也提高 30%。ASML正增加EUV在存储产业的量产应用，并将计划协助三个 DRAM客户实现在未来的制程节点中导入EUV。（《科创板日报》记者 戚夜云）