《科创板日报》25日讯，据日经中文网，佳能半导体机器业务部长岩本和德表示，纳米压印在晶圆上只压印1次，就可以在合适的位置形成复杂的二维或三维电路。如果改进掩膜，甚至可以生产电路线宽为2纳米的产品。纳米压印特点是设备构造简单。与使用很多透镜，一边照射光一边烧刻电路的传统方法相比，耗电量降至10分之1。设备价格也相对便宜，可以低成本实现半导体微细化。