【电报解读】极紫外光刻新技术问世,功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,这家公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套
电报解读
2024.08.02 08:58 星期五
//电报内容
【极紫外光刻新技术问世 能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本】财联社8月2日电,据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。
//解读摘要
极紫外光刻新技术问世,功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,光源是光刻机核心系统之一,这家公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套,另一家已参与高能同步辐射光源项目。
单篇付费12可解锁全文
火线解读!即时推送重要资讯独家深度解析
898 起
立即购买
展开
最新文章
加载更多
关于我们|网站声明|联系方式|用户反馈|网站地图|友情链接|举报电话:021-54679377转617举报邮箱:editor@cls.cn财联社举报
财联社 ©2018-2026上海界面财联社科技股份有限公司 版权所有沪ICP备14040942号-9沪公网安备31010402006047号互联网新闻信息服务许可证:31120170007沪金信备 [2021] 2号