有投资者问，目前为止，DUV光刻胶分为KrF248nm和ArF193nm两种，而EUV光刻胶是CAR光刻胶。公司有针对duv和euv光刻胶特性不同，而开发生产对应的半导体臭氧涂胶显影和光刻胶清洗设备吗？
国林科技在互动平台表示，尊敬的投资者，您好。光刻胶属于有机物的一种，臭氧主要作用之一就是去除有机物，因此公司半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺。感谢您的关注。