有投资者问，相比传统等离子蚀刻，臭氧蚀刻对基材损伤更小，适用于高精度图形化工艺。减少热应力，避免第三代半导体材料（如碳化硅）因高温导致的晶格缺陷。公司到底有没有蚀刻工艺的臭氧设备？能否用于第三代半导体制造？
国林科技在互动平台表示，尊敬的投资者，您好。公司现有半导体专用臭氧系统设备可以应用于蚀刻工艺、第三代半导体生产工艺。感谢您的关注。