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光刻机
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EUV光刻机是生产最新、最强大芯片必要设备,目前由ASML独家进行研发、制造,ASML公司掌握80%的国际市场份额,市面上无法寻找到其他替代品
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2025-12-02 15:02
【美政府将入股芯片制造工艺初创公司xLight】
财联社12月2日电,美国商务部在周一发布的一份新闻稿中表示,特朗普政府已同意向试图在美国开发更先进半导体制造技术的初创公司xLight注资最多1.5亿美元。作为回报,美国政府将获得xLight的股权,有可能成为xLight的最大股东。
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2025-12-02 13:07 来自 财联社 卞纯
事关光刻技术!特朗普政府又对战略产业出手:将入股xLight
①据报道,特朗普政府已同意向一家试图在美国开发更先进半导体制造技术的初创公司注资最多1.5亿美元,这是美政府利用激励措施支持具有战略重要性的国内产业的最新举措;
②“这项合作将支持一项能够从根本上改写芯片制造极限的技术,”美国商务部长霍华德·卢特尼克在新闻稿中表示。
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2025-12-01 21:07 来自 科创板日报记者 吴旭光
光刻胶板块领涨科技股 国产龙头公司布局提速
①对于上涨,有分析人士表示,主要驱动因素一方面源于市场对半导体光刻胶本土化替代的强预期;另一方面则得益于国内光刻胶产业链企业在产品技术上的突破与落地;
② 容大感光表示,目前该公司KrF(248nm)光刻胶项目已完成光刻机等核心设备配置工作,目前正积极开展相关产品的研发工作。
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2025-12-01 13:37
【光刻胶概念午后异动 容大感光涨超10%】
财联社12月1日电,午后光刻胶概念异动拉升,容大感光涨超10%,此前国风新材涨停,南大光电、锦华新材、高盟新材、彤程新材、兴业股份等快速冲高。消息面上,容大感光在互动平台表示,公司部分光刻胶产品在关键性能指标上已实现对部分日系产品的替代,并已在部分客户中实现批量应用。
锦华新材
-4.20%
南大光电
-3.60%
彤程新材
-2.88%
兴业股份
-3.49%
容大感光
-3.88%
国风新材
-9.98%
高盟新材
-5.35%
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2025-11-26 10:45
【芯上微装350nm步进光刻机完成出厂调试与验收】
《科创板日报》26日讯,据芯上微装公众号消息,公司自主研发的首台350nm步进光刻机(AST6200)正式完成出厂调试与验收,启程发往客户现场。据介绍,AST6200光刻机专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制。
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2025-11-22 15:10 来自 财联社 若宇
万亿级券商或诞生 本周披露并购重组进展的A股名单一览
①中金公司拟换股吸收合并东兴证券和信达证券,三家公司股票集体停牌中;
②据财联社不完全统计,本周披露并购重组进展的A股上市公司共有29家(附表)。
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2025-11-19 10:31
【洪镭光学:半导体掩模版光刻机与TGV玻璃基板光刻机完成订单交付】
财联社11月19日电,据洪田股份官微消息,近日,洪田股份旗下洪镭光学自主研发的应用于半导体掩模版领域的直写光刻机与TGV玻璃基板直写光刻机顺利下线,完成打包装运并发往订单需求客户。此次下线并交付的掩模版直写光刻机,是一台最小线宽线距解析能力为2.5μm,对位精度为±2μm的高精度的激光直写光刻设备,可满足客户L/S为3μm的掩模版产品的量产光刻需求。同时下线并交付客户的另一台直写光刻机,是应用于TGV玻璃基板领域,最小线宽线距解析能力为6μm,对位精度为±4μm,可满足510mm*515mm尺寸TGV玻璃基板生产需求的直写光刻设备。
洪田股份
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2025-11-18 10:19
【光刻机、光刻胶概念异动拉升 同益股份20cm涨停】
财联社11月18日电,光刻胶概念盘中异动拉升,同益股份直线拉升涨停,凯美特气触及涨停,张江高科、茂莱光学、新莱应材、波长光电、海立股份等跟涨。
张江高科
+0.63%
凯美特气
-3.71%
海立股份
-0.05%
新莱应材
+1.47%
同益股份
-4.60%
波长光电
-2.39%
茂莱光学
-1.34%
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2025-11-12 15:16
【阿斯麦在韩国斥资1.64亿美元建成维修培训基地】
财联社11月12日电,据韩国京畿道政府声明,阿斯麦(ASML)斥资约2400亿韩元(合1.64亿美元)在首尔以南的华城新建基地,该园区包含设备再利用与维修中心、培训中心及办公楼。新园区预计每年可培训约2000名技术人才。
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2025-11-12 12:30
【ASML韩国华城园区竣工】
《科创板日报》12日讯,荷兰芯片设备制造商阿斯麦(ASML)韩国华城园区竣工。阿斯麦华城园区总面积1.6万平方米,设有深紫外(DUV)光刻、极紫外(EUV)光刻等设备零部件再制造中心和先进技术培训中心。据悉,阿斯麦曾发布到2025年投资2400亿韩元在华城市建造半导体设备集群的计划。
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2025-11-07 21:26
【ASML中国区总裁沈波:中国市场将回归历史常规水平】
《科创板日报》7日讯,ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波在接受《科创板日报》采访时表示,"2023年之前,中国市场在ASML全球销售额中的占比多年维持在15%~20%。预期明年回归历史常规水平,是一个正常化的表现。过去这两年中国市场份额占比较高,是因为不同地区客户需求的时间节点发生一些变化,使我们有能力交付了一些此前的积压订单,自然带来一波成长。这部分产能需要一些时间消化,这也会导致周期性地出现变化,是正常的情况。”(记者 黄心怡)
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2025-11-07 21:23
【ASML中国区总裁沈波:中国区员工人数已超2000人】
《科创板日报》7日讯,ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波在接受《科创板日报》记者采访时表示,“目前,ASML中国区员工人数已经超过2000人,相较去年有约10%的增长。”谈及未来发展趋势,沈波认为,当AI终端应用扩展到消费、工业等广泛领域,将带来半导体产业的全面发展,但同时AI发展也带来算力和能耗两大挑战。(记者 黄心怡)
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2025-11-07 21:22
【ASML中国区总裁沈波:DUV仍是芯片成像主力】
《科创板日报》7日讯,ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波在接受《科创板日报》记者采访时表示,尽管EUV已成为多数逻辑和存储关键层的光刻技术标准,但DUV仍是芯片成像主力。“从整个产业发展的角度,即使到2030年全球每年晶圆数曝光将超过9亿次时,EUV的占比依然会很小,绝大部分的芯片还是由DUV来生产。芯片市场里面的一小部分是通过EUV生产,绝大部分还是靠DUV生产。”(记者 黄心怡)
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2025-11-07 21:11 来自 科创板日报记者 黄心怡
ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波:AI算力增长需求远超摩尔定律 能耗成关键瓶颈
①未来随着AI终端应用扩展到消费、工业等领域,将带来半导体产业的全面发展。但现阶段AI带来的新需求集中在大模型和服务器端,尚未充分传导到终端消费电子领域。
②目前,ASML中国区员工人数已经超过2000人,相较去年有约10%的增长。
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2025-11-07 20:47
【ASML展示首款先进封装大视场光刻机】
《科创板日报》7日讯,在第八届进博会上,半导体设备供应商ASML以数字化方式展示其全景光刻解决方案下的部分产品与技术。其中,DUV光刻机包括TWINSCAN XT:260、TWINSCAN NXT:870B。《科创板日报》记者获悉,TWINSCAN XT:260这款i-line光刻机是ASML首款可服务于先进封装领域的光刻系统,具有大视场曝光,相较于现有机型可提高4倍生产效率;TWINSCAN NXT:870B在升级的光学器件和最新一代磁悬浮平台的支持下,可实现每小时晶圆产量(wph)400片以上。(记者 陈俊清)
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2025-11-06 17:28 来自 界面新闻
【聚焦主流芯片市场 ASML进博会展示全景光刻解决方案】
财联社11月6日电,在第八届进博会ASML(阿斯麦)展台上了解到,其今年重点对外展示了面向主流芯片市场的全景光刻解决方案,融合光刻机、计算光刻和电子束量测与检测技术。ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波表示,“AI正驱动全球对不同制程节点芯片的需求不断增长,其中主流芯片在这一增长趋势中发挥着重要作用。依托ASML全景光刻解决方案,我们致力于帮助中国客户把握主流芯片市场机遇。” (界面新闻)
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2025-11-05 14:02
【ASML正组建三星泰勒工厂EUV现场服务团队】
《科创板日报》5日讯,ASML近期在美国奥斯汀发布了招聘现场服务工程师的公告,其中明确写道“将支持三星工厂EUV设备的初期试运行”。这意味着ASML已着手组建负责三星泰勒工厂现场服务团队。韩媒“金融新闻”援引行业知情人士表示,三星泰勒工厂EUV设备的安装准备工作已全面启动,三星泰勒工厂已接近投产阶段。
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2025-10-16 09:00 来自 韩国经济日报
【三星电子计划投资1.1万亿韩元引进最新的High-NA EUV光刻机】
《科创板日报》16日讯,三星电子计划投入约1.1万亿韩元引进两台最新的High-NA双级极紫外(EUV)光刻机。据业内人士透露,三星电子此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的High-NA EUV设备,此次引进的机器将用于“产品量产”。三星电子计划在年内引进一台,并在明年上半年再引进一台。 (韩国经济日报)
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2025-10-15 17:54 来自 科创板日报记者 郭辉
2025湾芯展今日开幕:芯上微装携封装光刻机首秀 拓荆、沪硅等龙头晒出硬核技术
①2025湾芯展开幕,今年的展会上行业龙头众多,涉及设备及零部件、晶圆制造、半导体材料、显示终端等众多产业环节;
②今年不少厂商首次参展湾芯展,有公司人士在现场表示,展商规格和观众数量来看还不错,明年考虑继续加大对湾芯展的支持和投入。
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2025-10-15 15:41
【阿斯麦有望凭借新一代光刻机在2030年前实现销售增长】
财联社10月15日电,受极紫外(EUV)和深紫外(DUV)光刻设备强劲需求推动,阿斯麦或将在2030年实现440-600亿欧元的营收目标。按520亿欧元的中值计算,2025至2030年间年销售额增长率可达10%。面向1.4纳米、1.0纳米及亚1.0纳米芯片的新一代EUV设备订单预计将从2025或2026年开始快速增长,其售价可能较传统EUV设备高出50%-100%。
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