①对于上涨，有分析人士表示，主要驱动因素一方面源于市场对半导体光刻胶本土化替代的强预期；另一方面则得益于国内光刻胶产业链企业在产品技术上的突破与落地；
② 容大感光表示，目前该公司KrF（248nm）光刻胶项目已完成光刻机等核心设备配置工作，目前正积极开展相关产品的研发工作。