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光刻胶
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光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。
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2026-09-24 20:22 来自 科创板日报记者 吴旭光
①彤程新材表示,一个明显变化是,近期本土替代速度明显加快,下游晶圆厂给到的测试机会大幅增加,基础验证周期由此前的1-2年普遍缩短至6-12个月;
②鼎龙股份方面表示,当前国内光刻胶整体国产化率仍处于低位,公司现阶段的核心目标是全力推动高端光刻胶产品实现稳定量产。
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2026-06-19 20:12 来自 科创板日报
①6月15日至6月18日,共有130家A股公司获机构调研;
②其中,盛美上海和广信材料获机构调研数量最多,分别有132家、121家机构参与;
③两家公司接受调研形式均含现场参观。
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2026-05-12 10:37 来自 财联社
①上海AI实验室联合团队基于“书生”科学大模型与平台,构建了“AI决策+自动化合成”的闭环研发体系,实现了高纯度、高一致性、高效率的KrF光刻胶树脂创制;
②该体系以智能化合成平台为物理执行基础平台,实现了从液体精准转移、惰性气氛保护到多级自动化后处理的全流程闭环运行。
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2026-04-22 16:57 来自 科创板日报 张真
①三星电子、SK海力士已收到日本供应商通知,称光刻胶等产品原材料的采购环节已出现中断;
②目前短缺的原料是PGME和PGMEA,两者可用于光刻胶、抗反射涂层(BARC)、旋涂硬掩模(SOH)以及高带宽存储器(HBM)的临时粘合剂。
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