2023年01月04日 19:21:45消息称三星电子将使用高端EUV薄膜来稳定3nm芯片良率
《科创板日报》4日讯，据报道，三星电子将在其3nm工艺中采用透光率超过90%的最新EUV掩模薄膜，以提高良率，薄膜将从S&STech采购。 (DIGITIMES asia)
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