《科创板日报》16日讯，近日，浙江奥首材料科技有限公司开发的新产品“14nm节点以上芯片光刻胶剥离液”已实现量产。新产品具有去胶能力强、清洗良率高、金属离子含量低、不含苯酚或氯化溶剂、金属蚀刻速率低等特点。主要应用于半导体芯片光刻图形化工艺后残留光刻胶的清洗领域。 (集微网)