初创公司NEO半导体推出3D X-DRAM技术
《科创板日报》4日讯,初创公司NEO Semiconductor表示,其3D X-DRAM技术可以生产230层的128Gbit DRAM芯片——是当前DRAM密度的八倍。NEO专注于半导体存储器并开发了X-NAND技术,NAND芯片具有多个平行平面以加速数据访问——第一代顺序写入带宽为1,600MBps,第二代为3,200MBps。NEO表示,3D X-DRAM是解决由下一波AI应用(例如ChatGPT)驱动的对高性能和大容量存储器半导体的需求增长所必需的。 (PR Newswire)