财联社1月11日电，苏大维格接受调研时表示，公司自主研发的激光直写光刻设备及纳米压印光刻设备是现有微纳光学材料产品开发、生产的核心支撑装备。公司目前正在重点拓展技术要求和毛利率较高的防伪材料、超薄高亮导光以及前光板等已量产产品的销售；同时也正在积极推进AR光波导、透明光场显示和裸眼3D显示等衍射光学器件的应用。