《科创板日报》6日讯，今日，中微公司董事长、总经理尹志尧表示，公司在今后十年将采取三个维度的发展策略。第一个维度是从目前的等离子体刻蚀设备，扩展到化学薄膜设备、刻蚀及薄膜有关的测试关键设备。第二个维度是扩展到泛半导体设备领域的产品，从已经开发的用于制造MEMS和CIS影像感测器的刻蚀设备、制造蓝光LED的MOCVD设备，扩展到更多的微观器件加工设备，以及制造深紫外LED、Mini-LED、Micro-LED等微观器件的设备产品。第三个维度是探索核心技术在环境保护、工业互联网等新的应用。