很抱歉,当前没有启用javascript,网站无法正常访问。请开启以便继续访问。
logo2026年03月25日 13:38:35
中微公司推出新一代电感耦合ICP等离子体刻蚀设备等四款新产品
财联社3月25日电,据中微公司消息,在SEMICON China 2026期间,其宣布推出四款覆盖硅基及化合物半导体关键工艺的新产品,包括新一代电感耦合ICP等离子体刻蚀设备Primo Angnova™、高选择性刻蚀机Primo Domingo™、Smart RF Match智能射频匹配器以及蓝绿光Micro LED量产MOCVD设备Preciomo Udx®,进一步丰富了公司在刻蚀设备、薄膜沉积设备及核心智能零部件领域的产品组合及系统化解决方案能力。
关联个股
269.01W
关联话题
10.24W 人关注
9903 人关注
8681 人关注
9046 人关注
9574 人关注
关于我们|网站声明|联系方式|用户反馈|网站地图|友情链接|举报电话:021-54679377转617举报邮箱:editor@cls.cn财联社举报
财联社 ©2018-2026上海界面财联社科技股份有限公司 版权所有沪ICP备14040942号-9沪公网安备31010402006047号互联网新闻信息服务许可证:31120170007沪金信备 [2021] 2号