2021年06月10日 12:51:16
TEL与ASML合力研制下一代NA EUV光刻机 预计2023年投入运行
《科创板日报》10日讯,日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子宣布,将在镀膜/显影技术上与ASML合作,以联合推进其下一代NA EUV光刻机的研制,确保2023年投入运行。参与该EUV光刻机研发的还有比利时的欧洲微电子中心。
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